薄膜沉积设备是国家支持发展的重大技术装备。近日,青岛市赛瑞达电子装备股份有限公司研制成功一种新的石墨烯纳米材料化学气相沉积(CVD)设备,单管一次可产6英寸石墨烯20片,经专家鉴定达到国际先进水平。
石墨烯是由碳六元环组成的二维周期蜂窝状点阵结构,是已知最薄、最坚硬、导电性能最好的纳米材料,在电子、航天、光学、储能、生物医药等领域具有广阔的应用前景,其最早由英国科学家从石墨中分离出,并获得2010年诺贝尔物理学奖。CVD设备是制备单层大面积石墨烯纳米材料的关键装备,赛瑞达公司研制的新一代CVD设备,采用不锈钢真空腔室和石英管真空腔室的双真空管工艺环境,通过加长恒温区和改进石英舟的结构设计,提高了设备产能,每管产量可达20片;通过对工艺管内压力平衡系统进行优化和采用多点充气弥散氛围设计,提高了基片成膜的质量和一致性。该设备材料制备过程无污染,总体工艺先进、合理,大大提高了国内纳米材料CVD设备的技术水平,市场前景广阔。
近年来,赛瑞达公司依托企业技术中心,不断加强创新能力建设,先后研制成功半导体技术专用工艺设备,电子元器件专用工艺设备,集成电路工艺设备,太阳能电池片专用工艺设备,LED工艺设备,砷化镓工艺设备,纳米材料工艺设备,磁性材料工艺设备,航空航天及国家军工单位专用的工艺设备等产品种类200多个,获得各种专利及著作权40余项,已成长为国内综合实力最强的半导体工艺装备制造企业。(青岛市经济和信息化委员会供稿)
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